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007拉拉
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篇名:
2006/04/18的日記
作者:
007拉拉
日期: 2006.04.18 天氣:
心情:
在65奈米以後繼續薄化將會出現一些困擾,例如當製程來到45奈米、32奈米後,閘極的絕緣膜不斷薄化的情況下,會使得漏電流的情況急速惡劣,這樣的障礙,使得業者不得不正視這樣的問題,來減緩薄化絕緣膜厚度的速度,但是這也將帶來另一個層面的影響,由於閘極長度的縮小速度也減慢,及動作電壓就難以再降低,導致更低耗功的目標,也會倍加的困難。
所以,與65奈米以上的製程相較,當進入到45奈米後,IC製造業者不得不在製程技術上做一些改變,所以影響的包括:曝光製程、閘極結構及多層繞線等等。
:D:D:D:D
越切越小.中間絕緣體就不易絕緣
預估2015年要達到15奈米
材料要達到超絕緣才行吧
很多材料到太薄就無法絕緣.就會導電.就是所謂的漏電
這是很嚴重的問題
若是材料找到新材料.這利益將是很離譜的
:D
現在8吋用90奈米在作切割
以後12吋用45奈米來作
一片可製造出5倍效益
人工成本一樣
所以現在1G快閃市價750.會跌到150
但這是理想值
3星12吋晶元轉65奈米就出問題
英特爾去年賣90奈米CPU出現高熱跟漏電的問題
今年賣65奈米以後45奈米
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